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半導體先進製程大戰開打，包括英特爾、台積電、三星等大廠將在2018年開始跨入極紫外光（EUV）微影世代，誰能在EUV技術上取得領先地位，將成為7奈米及5奈米的市場新霸主。設備廠家登（3680）布局極紫外光光罩傳線上學英文會話學英語送盒（EUV POD）多年，並於農曆年前再次通過微影設備大廠艾司英語補習班費用學英語摩爾（ASML）EUV機台測試，結果證明家登已取得EUV市場入場門票。學英文線上英語學習

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艾司摩爾先前公告去年第四季財報優於預期，EUV機台已接單未出貨（backlog）數量已達18台，營收規模已達20億歐元。艾司摩爾指出，客戶端將在7奈米邏輯製程及1y奈米DRAM製程開始採用EUV技術，而預估2017年EUV技術目標是要達到每天曝光晶圓數達3000片的量產規模，機台可使用率超過9成，可在2018年達到客戶量產需求。為了加快布局EUV技術及建立產能，包括英特爾、台積電、三星等三大半導體廠的先進製程大戰可說已正式展開。英特爾已宣布將投資70億美元，將在美國亞利桑那州的12吋晶圓廠Fab 42中建立支援EUV的生產線。三星在才剛落幕的ISSCC大會中，說明將會在7奈米邏輯製程世代開始導入EUV技術，而業界透露，三星也會在2018～2019年間量產的1y奈米DRAM製程上，開始試著採用EUV技術。至於晶圓代工龍頭台積電原本預期在5奈米世代才會導入EUV，但為了保持技術領先地位，已經說明將在7奈米量產後一年，也就是2019年，開始在部份光罩製程中採用EUV技術，5奈米世代將可大量導入EUV製程。在三大廠全面啟動EUV微縮計畫情況下，全球半導體設備及材料廠也開始擴增產能大搶龐大商機。家登布局多年的EUV POD已在農曆年前再次通過艾司摩爾機台測試，測試結果證明家登取得關鍵技術入場門票，將為2017年營運注入成長動能。家登表示，EUV技術是未來7奈米以下先進製程關鍵，為配合全球半導體客戶發展進程，家登同步研發相應的光罩傳載解決方案。目前通過測試最新版本的EUV POD比照艾司摩爾微粒防護的最新標準，與光罩接觸點皆為耐磨材質，能有效減少微塵粒（Particle），提供EUV光罩在製程站間傳送與儲存的高效能防護。家登元月受到工作天數減少影響，單月營收年減33.5％達1.23億元，但家登指出這只是短期現象，看好營收將在2月後回穩，全年營收仍將較去年成長。家登今年營運策略採聚焦主軸，光罩傳載解決方案聚焦EUV，晶圓傳載解決方案聚焦12吋300FOUP晶圓盒等兩大產品線，對全年營運抱持樂觀看法。(工商時報)

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