製作過程

    1.影像處理(光罩製作)

• 挑選製作的照片，經由繪圖程式，轉成黑白高反差影像，利用投影片印出，貼在透明光罩上

    2.基板清洗

• 將要被轉印的基板，京標準清洗程序去除油汙及雜質後，用氮氣槍吹乾

     3.金屬蒸鍍(銅)

• 將清洗好的基板，黏上教帶，貼在蒸(濺)鍍機兩側的腔壁上，之後關上腔體，抽真空進行金屬的蒸鍍製程，鍍膜厚度視需求調整，通常是200nm

     4.光阻塗佈

• 將以鍍膜的基板，利用旋鍍機，均勻旋塗上一層薄光阻(2x10的-6次方m)後，放入烘箱軟烤，使光阻凝固

     5.光阻曝光

• 將已塗好光阻的基板，利用曝光機與先前製作的光罩，對準位置後進行曝光程序(曝光時間約為8秒)

      6.光阻顯影

• 曝光玩後的光阻，經由顯影液顯影出光罩圖案後，用純水洗淨吹乾

      7.蝕刻金屬

• 將有圖案的光阻基板，置入蝕刻液中數秒，此時沒有被光阻保護到的金屬將被蝕刻掉，只剩下有光阻保護的圖案

       8.轉印完成

• 蝕刻完後的基板，在用純水洗淨吹乾後，即完成照片轉印

以上這些是下面作品須要的過程，缺少一個過程就不會有以下這麼漂亮的圖出現了

個人感想:很高興這次我有去參加這個訓練營，之前去參加台大的奈米訓練營，只友介紹，而這次參加聖約翰的因為時間比較長，所以有做出成品，而也有了之前台大的一些基本概念導至於我對這個比較不陌生，而很高興有這個機會可以去參加聖約翰策略聯盟體驗營，因為學到了很多，有來自宜蘭的羅東高中和我們惇敘工商不同科的同學一起參加，也經過這幾天的努力下來終於完成這項很困難的作品，因為每一個步驟當中只要有出錯那就做不出來了，也很感謝聖約翰的學長和教授的教導，才能讓我們完成這個作品，真的很感謝，花了這幾天的時間去學是值得的。

以下是照片ˇ